发明名称 Apparatus for preselecting and maintaining a fixed gap between a workpiece and a vacuum seal apparatus in particle beam lithography systems.
摘要
申请公布号 EP0324436(B1) 申请公布日期 1994.11.09
申请号 EP19890100347 申请日期 1989.01.10
申请人 ETEC SYSTEMS, INC. 发明人 YOUNG, LYDIA J.;VENEKLASEN, LEE H.
分类号 H01J37/301;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/30;H01L21/677;(IPC1-7):H01J37/317;H01L21/31;H01J37/18 主分类号 H01J37/301
代理机构 代理人
主权项
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