圆筒形磁控管的屏蔽结构

摘要

作为磁控管一部分的旋转的圆筒形溅射靶表面在靠近靶的每一端都有圆筒形屏蔽，屏蔽的内部边缘形状使腐蚀变得最大并且能在溅射某种材料(尤其是电介质)时防止不期望发生的凝聚和随后的电弧放电。另一种替换形式，给靶提供一个圆筒形屏蔽，将该屏蔽的圆筒体切开一个相当大的距离以提供一个开口，通过开口可看到靶的溅射区，还能保持靶端区的屏蔽作用。此单个屏蔽在靠近开口的内部边缘进行类似的成型。优选的屏蔽结构是可旋转的。

主权项

1、一种溅射设备，其特征在于包括：一个具有真空室的磁控管，其中包括至少一个靶结构具有溅射材料圆筒形的外表面；第一和第二支撑结构，在靶的两端部夹持所说靶结构，使所说靶结构可绕其纵轴旋转；一个在所说靶结构中的磁铁组件，它提供一个沿所说溅射材料表面的长度方向延伸并且延伸一个圆周距离的磁场区；以及第一和第二圆筒形的屏蔽，所说屏蔽通过所说第一和第二支撑结构装在所说靶结构的两端部，并且沿所说溅射材料表面方向轴向延伸，从而基本上覆盖了所说溅射材料表面的端部，所说第一屏蔽具有最接近所说第二屏蔽的内部边缘，并且所说第二屏蔽具有最接近所说第一屏蔽的内部边缘，确定靠近所说磁场区的所说内部边缘的形状，使其基本上和所说磁场区的轮廓符合。