发明名称 Masques pour une machine d'insolation double face.
摘要 <P>La présente invention concerne une paire de masques (1) destinés à l'insolation de la surface supérieure et de la surface inférieure d'une plaquette de silicium. Chaque masque comporte, en dehors de sa surface utile (5) correspondant à la surface de la plaquette de silicium des mires identiques ou complémentaires (30, 31).</P>
申请公布号 FR2704660(A1) 申请公布日期 1994.11.04
申请号 FR19930005312 申请日期 1993.04.27
申请人 SGS THOMSON MICROELECTRONICS SA 发明人 LAUVERJAT ERIC
分类号 G03F7/20;G03F9/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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