Anordnung und Verfahren zum Positionieren der Abbildung der auf einer Maske befindlichen Struktur auf ein Substrat.,申请号DE19883851653-传众专利搜索

发明名称	Anordnung und Verfahren zum Positionieren der Abbildung der auf einer Maske befindlichen Struktur auf ein Substrat.
摘要
申请公布号	DE3851653(D1)	申请公布日期	1994.11.03
申请号	DE19883851653	申请日期	1988.06.01
申请人	IMS IONEN MIKROFABRIKATIONS SYSTEME GES.M.B.H., WIEN, AT;OESTERREICHISCHE INVESTITIONSKREDIT AG, WIEN, AT	发明人	STENGL, GERHARD, DR., A-9241 WERNBERG, KAERNTEN, AT;LOESCHNER, HANS, DR., A-1190 WIEN, AT;HAMMEL, ERNST, DR., A-1190 WIEN, AT;GLAVISH, HILTON F., DR., SALEM, MASSACHUSETTS 01970, US
分类号	H01L21/30;G03F9/02;H01J37/317;H01L21/027;(IPC1-7):G03B41/00;H01J37/304	主分类号	H01L21/30
代理机构		代理人
主权项
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