| 主权项 |
1.一种产制如下式(III)单偶氮染料之方法:其中XC^1C 为 硝基或卤素,XC^2C为卤素,RC^1C为CC_1C-CC_3C烷氧基 ,RC^2C为CC_1C-CC_3C烷基,RC^3C和RC^4C各自为CC_1C -CC_3C烷基,氰CC_1C-CC_3C烷基或CC_1C-CC_3C烷羰 氧CC_1C-CC_3C烷基,以及m和n各自为0或1,此方法包括 重氮化如下式(I)苯胺衍生物:其中XC^1C与XC^2C如上 定 义,接着与如下式(II)苯胺衍生物进行偶合:其中RC^1 C ,RC^2C,RC^3C,RC^4C,m与n如上定义,其中将偶合反 应所得反应混合物于一种HLB値(亲水亲油平衡値) 为11至 16的聚氧乙烯CC_11C-CC_21C脂肪酸酯型之非离子性界 面 活性剂的存在下予以热处理,接着过滤以得到饼块 状( Cake)之该单偶氮化合物。2.如申请专利范围第1项 之方法,其中XC^1C为硝基,XC^ 2C为氯或溴,RC^1C为甲氧基或乙氧基,RC^2C为甲基,RC ^3C与RC^4C各自为-CC_2CHC_4CO-C-CHC_3C,以及m与n 各为1。3.如申请专利范围第1项之方法,其中XC^1C为 硝基,XC^ 2C为氯或溴,RC^2C为甲基,RC^3C与RC^4C各自为CC_1C- CC_3C烷基,m为0,以及n为1。4.如申请专利范围第3项 之方法,其中RC^3C与RC^4C各自 为乙基。5.如申请专利范围第1项之方法,其中XC^1C 与XC^2C各自 为卤素,RC^3C为氰CC_1C-CC_3C烷基,RC^4C为CC_1C-C C_3C烷基,以及m及n各为0。6.如申请专利范围第5项 之方法,其中RC^3C为氰乙基, 以及RC^4C为乙基。7.如申请专利范围第1项之方法, 其中该非离子性界面活 性剂具有12至15之HLB値。8.如申请专利范围第1项之 方法,其中该偶合反应系于一 种聚氧乙烯CC_11C-CC_21C脂肪酸酯型之非离子性界面 活 性剂存在下进行,且然后在不将该非离子性界面活 性剂移 除下将该偶合反应所得反应混合物予以热处理。9 .如申请专利范围第1项之方法,其中该非离子性界 面活 性剂之用量为1至10wt基于欲制得之单偶氮化合物 。10.如申请专利范围第9项之方法,其中该非离子 性界面 活性剂之用量为2至5wt基于欲制得之单偶氮化合物 。11.如申请专利范围第1项之方法,其中偶合反应 后之热 处理系于搅拌中及50至90℃的温度进行0.5至3小时 。12.如申请专利范围第1项之方法,其中该偶合反 应系于 水性介质中,酸性条件下进行。13.如申请专利范围 第1或12项之方法,其中该偶合反应 |
