PERFECCIONAMIENTOS APORTADOS A COMPOSICIONES SENSIBLES A LAS IRRADIACIONES.

摘要

UN MATERIAL SENSIBLE A LA RADIACION ADECUADO PARA LA PRODUCCION DE PLACAS SENSIBLES A LA RADIACION, PARA IMPRESION DE PLACAS DE IMPRESION LITOGRAFICA, COMPRENDE UN POLIMERO QUE TIENE AÑADIDOS GRUPOS DE ETER AROMATICO SUSTITUIDOS POR AZIDA Y GRUPOS DE SULFONIL URETANO. EL COMPUESTO SENSIBLE A LA RADIACION SE FORMA MEDIANTE UN PROCESO EN EL QUE ALGUNOS GRUPOS HIDROXILO Y/O EPOXI DE UN POLIMERO SE HACEN REACCIONAR CON UN ACIDO O ESTER CARBOXILICO SUSTITUIDO POR AZIDA, FORMANDO SU DERIVADO, Y ALGUNOS GRUPOS HIDROXILO SE HACEN REACCIONAR CON UN ISOCIANATO DE SULFONILO.