| 发明名称 |
SILICIDE TARGET FOR SPUTTERING AND ITS PRODUCTION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06306595(A) |
申请公布日期 |
1994.11.01 |
| 申请号 |
JP19930112517 |
申请日期 |
1993.04.16 |
| 申请人 |
JAPAN ENERGY CORP |
发明人 |
ANAMI JUNICHI;WADA HIRONORI;YASUOKA AKIO;KANANO OSAMU |
| 分类号 |
C22C1/05;B22F3/10;C23C14/34;H01L21/285;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C22C1/05 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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