| 发明名称 |
VAPOR DEPOSITION OF SILICON NITRIDE THIN FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06302528(A) |
申请公布日期 |
1994.10.28 |
| 申请号 |
JP19940046225 |
申请日期 |
1994.03.16 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS INC |
发明人 |
ISURAERU BEINGURASU;MAHARINGAMU BUENKATESAN |
| 分类号 |
C23C16/34;C23C16/50;H01L21/205;H01L21/31;H01L21/318;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
C23C16/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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