| 发明名称 |
METHOD OF ELECTRON BEAM EXPOSURE AND APPARATUS THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR940010150(B1) |
申请公布日期 |
1994.10.22 |
| 申请号 |
KR19900020382 |
申请日期 |
1990.12.12 |
| 申请人 |
TOSHIBA CO., LTD.;TOSHIBA MICROELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
SUZUKI, TOSHIYUKI |
| 分类号 |
H01L21/30;H01J37/304;H01J37/317;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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