| 主权项 |
1.一种制造下式双环芳族磺醯卤化物的方法:式中: X是 卤素;B是-O-或-CHC_2C-;A是-O-,-CHC_2C-, 或-N(CHC_3C)-;而n是1或2;但A或B至少之一是-O -,其包含将下式之化合物和三氧化硫-N,N-二甲基甲 醯胺复合物,在易与水互溶,非反应的溶剂中,温度 约摄 氏30度到约摄氏120度的范围内反应,接着在温度约 摄氏 30度至约摄氏120度的范围内加入亚硫醯卤化物。2. 根据申请专利范围第1项之方法,其中反应温度约 摄氏 50度到约摄氏85度。3.根据申请专利范围第1项之方 法,其中的双环芳族磺醯 卤化物是2,3-二氢苯并喃-5-磺醯氯,1,3-苯并间 二氧杂环戊烯-5-磺醯氯,或1,4-苯二氧己烷-6- 磺醯氯。4.一种制造下式双环芳族磺醯胺之方法 式中:B是-O-或 -CHC_2C-;A是-O-,-CHC_2C-,或-N(CHC_3C)- ;而n是1或2;但A或B至少之一是-O-,其包含将下式 之化合物和三氧化硫-N,N-二甲基甲醯胺复合物,在 与 水互溶,非反应的溶剂中,温度约摄氏30度到约摄氏 120 度的范围内反应,接着在温度约摄氏30度至约摄氏 120度 的范围内加入亚硫醯卤化物继而进行氨解或氨化 反应。5.根据申请专利范围第4项之方法,其中的双 环芳族磺醯 胺是2,3-二氢苯并 喃-5-磺醯胺,1,3-苯并间二 氧杂环戊烯-5-磺醯胺,或1,4-苯二氧己烷-6-磺 醯胺。6.一种制造下式双环芳族磺酸之方法:式中: B是-O-或 -CHC_2C-;A是-O-,-CHC_2C-或-N(CHC_3C)-; 而n是1或2;但A或B至少之一是-O-,其包含将下式之 化合物和三氧化硫-N,N-二甲基甲醯胺复合物,在与 水 互溶,非反应的溶剂中,温度约摄氏30度至约摄氏120 度 的范围内反应。7.根据申请专利范围第6项之方法, 其中的双环芳族磺酸 是2,3-二氢苯并 喃-5-磺酸,1,3-苯并间二氧杂 环戊烯-5-磺酸,或1,4-苯二氧己烷-6-磺酸。8.一种制 造下式磺醯之方法:式中:B是-O-或-CHC_ 2C-;A是-O-,-CHC_2C-或-N(CHC_3C)-;但A或B 至少之一是-O-,n是1或2;而RC^1C与RC^2C是分别选 自卤素,三氟甲基,氢,及CC_1C-CC_6C烷基,但RC^1C 与RC^2C至少之一非为氢,其包含首先将下式之化合 物和 三氧化硫-N,N-二甲基甲醯胺复合物,在与水互溶,非 反应的溶剂中,温度约摄氏30度至约摄氏120度的范 围内 反应;进行氨解或氨化反应;将磺醯胺和下式的异 氰酸盐 在与水互溶,非反应的溶剂中,温度约摄氏30度至约 摄氏 100度的范围内反应,直到所要的化合物制备为止。 9.根据申请专利范围第8项之方法,其中的磺醯是 N-[ [(3,4-二氯苯基)胺基]羰基]-2,3-二氢苯并 喃- |
