| 发明名称 |
PHOTORESIST SUBSTRATE AND MANUFACTURE THEREOF |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH06296069(A) |
申请公布日期 |
1994.10.21 |
| 申请号 |
JP19930082076 |
申请日期 |
1993.04.08 |
| 申请人 |
ASAHI CHEM IND CO LTD |
发明人 |
KOYAMA RYOHEI;TSUBAKIHARA MASAHIRO |
| 分类号 |
C25D5/44;H05K3/20;(IPC1-7):H05K3/20 |
主分类号 |
C25D5/44 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
