一种制作介质薄膜的方法

摘要

本发明是在金属材料上先采用电化学氧化方法，形成该金属的氧化物薄膜，再在氧化膜上通过溅射、蒸镀、等离子辉光放电、低压CVD等方法生长一层介质膜，形成了复合介质薄膜隔离层。利用这种技术制造的复合介质隔离层，具有耐450℃高温，与金属基体结合性好，高绝缘强度等优点。适用于制造各种以金属为基体材料的薄膜温度传感器、薄膜力学量传感器、气体传感器和其它具有上述要求的传感器或金属零部件。

主权项

1.一种制作介质薄膜的方法，是利用蒸镀、溅射、等离子辉光放电、低压CVD等方法在金属表面生长一层介质薄膜，其特征在于在生长该介质薄膜之前，先将金属表面用电化学氧化方法生成一层该金属的氧化物。