发明名称 SELECTED NOVOLAK RESINS AND SELECTED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITIONS.
摘要 Résine de liaison de novolaque soluble dans les alcalis, se caractérisant par la réaction par condensation d'un mélange de monomères phénoliques avec au moins une source d'aldéhyde, lesdits monomères phénoliques comprenant: (1) de 2 à 18 % en poids environ, dudit mélange, de 2,6-diméthylphénol; (2) de 55 à 75 % en poids environ de 2,3-diméthylphénol; (3) de 16 à 40% en poids environ d'un phénol d'alkyle inférieur para-substitué, choisi dans le groupe composé de 3,4-diméthylphénol, de para-crésol et d'un dimère de para-crésol; la source d'aldéhyde étant comprise au moins en une quantité stoechiométrique afin de réagir avec toutes les fractions phénoliques. Ces résines de liaison de novolaque peuvent être utilisées dans des compositions sensibles aux rayonnements destinées à être utilisées comme agents de réserve à développement positif.
申请公布号 EP0619034(A1) 申请公布日期 1994.10.12
申请号 EP19930901169 申请日期 1992.12.15
申请人 OCG MICROELECTRONIC MATERIALS, INC. 发明人 JEFFRIES, ALFRED T., III;BRZOZOWY, DAVID J.
分类号 C08G8/04;C08G8/12;G03F7/023;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/023;G03F7/32 主分类号 C08G8/04
代理机构 代理人
主权项
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