| 发明名称 | 气体离子源装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种可在气体中产生离子流的气体离子源装置，它是由金属介板(1)、驱动电极(3)和接上高压电的电晕电极(2)构成，电晕电极(2)产生电晕离子并沉积到金属介板(1)表面，驱动电极(3)在电势差作用下产生高速电子或离子并轰击金属介板(1)表面，使其上面的电晕离子及气体离子一起逸出形成气体离子流。本实用新型具有离子产生效率高、安全、结构简单、成本低等优点，应用面十分广泛。 | ||
| 申请公布号 | CN2178564Y | 申请公布日期 | 1994.10.05 |
| 申请号 | CN94226034.1 | 申请日期 | 1994.01.11 |
| 申请人 | 刘岸 | 发明人 | 刘岸 |
| 分类号 | B03C3/38;B03C3/40;H01T23/00 | 主分类号 | B03C3/38 |
| 代理机构 | 湖南省专利服务中心 | 代理人 | 夏青 |
| 主权项 | 1、一种气体离子源装置，其特征在于它是由金属介板(1)、电晕电极(2)、驱动电极(3)和高压电源(4)构成，其中电晕电极(2)与高压电源(4)相连，驱动电极(3)可接地并放置在金属介板(1)的附近、足以使金属介板(1)受到驱动电极(3)高压放电作用的位置，金属介板(1)放置在电晕电极(2)接通高压电源(4)后所产生的电晕区域(5)之内。 | ||
| 地址 | 410005湖南省长沙市松桂园宾馆省证券公司一门市部 | ||