发明名称 |
Fabrication process of a solar cell from a wafer substrate. |
摘要 |
<p>In einer Substratscheibe werden durch elektrochemisches Ätzen durchgehende Löcher (4) gebildet, so daß eine perforierte, freitragende Schicht (7) aus n-dotiertem, monokristallinem Silizium entsteht. In der freitragenden Schicht (7) werden ein n-dotiertes Gebiet (10, 13) und ein p-dotiertes Gebiet (9) hergestellt, die einen pn-Übergang bilden und die beide an eine erste Hauptfläche (2) der freitragenden Schicht (7) angrenzen. Auf der ersten Hauptfläche (2) wird ein Kontakt (15) zu dem n-dotierten Gebiet (13, 10) und ein Kontakt (14) zu dem p-dotierten Gebiet (9) gebildet, so daß der pn-Übergang als Solarzelle verschaltbar ist, in die der Lichteinfall über eine zweite, der ersten gegenüberliegenden Hauptfläche (52) erfolgen kann. <IMAGE></p> |
申请公布号 |
EP0618623(A2) |
申请公布日期 |
1994.10.05 |
申请号 |
EP19940103123 |
申请日期 |
1994.03.02 |
申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
LEHMANN, VOLKER, DR.;WILLER, JOSEF, DR.;HOENLEIN, WOLFGANG, DR. |
分类号 |
H01L31/0224;H01L31/0352;H01L31/047;H01L31/18;(IPC1-7):H01L31/022;H01L31/035;H01L27/142 |
主分类号 |
H01L31/0224 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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