发明名称 Fabrication process of a solar cell from a wafer substrate.
摘要 <p>In einer Substratscheibe werden durch elektrochemisches Ätzen durchgehende Löcher (4) gebildet, so daß eine perforierte, freitragende Schicht (7) aus n-dotiertem, monokristallinem Silizium entsteht. In der freitragenden Schicht (7) werden ein n-dotiertes Gebiet (10, 13) und ein p-dotiertes Gebiet (9) hergestellt, die einen pn-Übergang bilden und die beide an eine erste Hauptfläche (2) der freitragenden Schicht (7) angrenzen. Auf der ersten Hauptfläche (2) wird ein Kontakt (15) zu dem n-dotierten Gebiet (13, 10) und ein Kontakt (14) zu dem p-dotierten Gebiet (9) gebildet, so daß der pn-Übergang als Solarzelle verschaltbar ist, in die der Lichteinfall über eine zweite, der ersten gegenüberliegenden Hauptfläche (52) erfolgen kann. <IMAGE></p>
申请公布号 EP0618623(A2) 申请公布日期 1994.10.05
申请号 EP19940103123 申请日期 1994.03.02
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 LEHMANN, VOLKER, DR.;WILLER, JOSEF, DR.;HOENLEIN, WOLFGANG, DR.
分类号 H01L31/0224;H01L31/0352;H01L31/047;H01L31/18;(IPC1-7):H01L31/022;H01L31/035;H01L27/142 主分类号 H01L31/0224
代理机构 代理人
主权项
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