| 主权项 |
1.一种在石版印刷制程中使用曝光具之虚拟绕射罩目包含一连同主罩目辅助构成之绕射涂层与一利用曝光具之影像转移特性与光阻剂特性使转移至晶圆之影像防止被分解之设计。2.如申请专利范围第1项所述之虚拟绕射罩目,其中该虚拟绕射涂层乃以单层式或多层式结构并采整体或分离式构成于主罩目上。3.如申请专利范围第1项所述之虚拟绕射罩目,其中该虚拟绕射涂层系由遮光膜,透明膜及石英基底蚀刻模中任选其一所构成。4.如申请专利范围第1项所述之虚拟绕射罩目,其中该虚拟绕射涂层系由遮光膜,透明膜及石英基底蚀刻模中至少选择其二所构成。5.如申请专利范围第3项所述之虚拟绕射罩目,其中该遮光膜系由铬所制成。6.如申请专利范围第1项所述之虚拟绕射罩目,其中形成该虚拟绕射涂层之该膜将以一或二次元周期性光栅模式组成。7.如申请专利范围第6项所述之虚拟绕射罩目,其中形成虚拟绕射涂层之光栅模之周期应为主罩目遮光膜重覆图形者之整数倍。8.如申请专利范围第6项所述之虚拟绕射罩目,其中主罩目与虚拟绕射涂层间之间距将以较虚拟绕射涂层重覆图形之周期为大之方式设定之。9.如申请专利范围第1项所述之虚拟绕射罩目,其中该虚拟绕射涂层系以图形不同周期内之每一重覆图形具各自不同方向之设计方式所构成者。图1所示系依据本发明虚拟绕射罩目之绕射涂层与主罩目之排列的示例图:其中(A)安装在主罩目上方之绕射涂层之结构示例图,(B)安装在主罩目下方之绕射涂层之结构示例图,(C)安装在主罩目上方及下方之绕射涂层之示例图;图2系图1所示绕射涂层主要的图解示例图;其中(A)上绕射涂层之图解示图,(B)下绕射涂层之图解示例图;图3系依据本发明之虚拟绕射涂层改良后之构造;其中(A)单层式绕射涂层,(B)分离式单层绕射涂层模式,(C)整体多层式绕射涂层,(D)分离式多层式绕射涂层;及图4系依据本发明虚拟绕射涂层之基底物质结构示例图;其中(A)遮光膜(铬)式绕射涂层示 |
