| 摘要 |
Un método para fabricar un producto revestido con capas múltiples de baja emisividad que comprende las etapas de: a. colocar un sustrato no metálico transparente en una cámara de pulverización catódica; b. pulverizar un cátodo metálico en una atmósfera reactiva que comprende oxígeno para depositar una primera película de óxido metálico transparente y antirreflectante sobre una superficie de dicho sustrato; c. depositar una primera capa de imprimación sobre dicha película de óxido metálico transparente que comprende un metal seleccionado entre titanio y circonio; d. pulverizar una superficie de emisión de cátodo metálico en una atmósfera inerte para depositar una película metálica reflectante de rayos infrarrojos sobre dicha primera capa de imprimación; e. depositar una segunda capa de imprimación que contiene metal sobre dicha película metálica reflectante de rayos infrarrojos que comprende un metal seleccionado entre titanio y circonio; f. pulverizar un cátodo metálico en una atmósfera reactiva que comprende oxígeno para depositar una segunda película de óxido metálico transparente y antirreflectante, caracterizado porque la etapa de deposición de la primera capa de imprimación comprende, en primer lugar, pulverizar dicho metal en una atmósfera oxidante para depositar el óxido de dicho metal y luego pulverizar el mismo metal en una atmósfera inerte para depositar dicho metal. |
