Verwendung eines lichtempfindlichen Gemisches und eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials zur Bildung einer Lötmaske,申请号DE19813139909-传众专利搜索

发明名称	Verwendung eines lichtempfindlichen Gemisches und eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials zur Bildung einer Lötmaske
摘要
申请公布号	DE3139909(C3)	申请公布日期	1994.09.29
申请号	DE19813139909	申请日期	1981.10.07
申请人	HITACHI CHEMICAL CO., LTD., TOKIO/TOKYO, JP	发明人	ISHIMARU, TOSHIAKI, HITACHI, JP;TSUKADA, KATSUSHIGE, HITACHI, JP;HAYASHI, NOBUYUKU, HITACHI, JP
分类号	C08F299/00;B23K35/22;C08F2/50;C08F290/00;C08F299/06;C08G18/67;C23F1/00;G03F7/027;G03F7/038;H05K3/28;(IPC1-7):G03F7/027;G03F7/085;H05K3/00	主分类号	C08F299/00
代理机构		代理人
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