| 主权项 |
1.用于对入射中子进行检测和二维定位的装置,其 中包括 接受中子的入射表面,其特征在于它包括:--经入射 中 子的敲击能产生电荷的装置(16);--电荷放大装置(17 、19.23),该装置在放大过程中发射光子;--用于使 发射光子聚焦的装置(28);--装置(29),它适用于使聚 焦光子在出口表面上释放出光脉冲,每个光脉冲相 对应于 入射表面上的各粒子的撞击。这些分布在出口表 面上的光 脉冲与在入射表面上各粒子的撞击分布相对应,并 使其放 大直至饱和,以便能获得校准的光脉冲;--由上述出 口 表面发射的校准的光脉冲的定位和计数装置(58.60. 62) 。2.如申请专利范围第1项所述之装置,其特征在于 :用于 释放出校准的光脉冲的装置(29)包括一个图像增强 器,它 属于能起线性放大器作用的〞微型通道板〞类型 。3.如申请专利范围第1项所述之装置,其特征在于 :用于 释放出校准的光脉冲的装置(29)包括第一和第二微 型通道 板(34a,34b)。4.如申请专利范围第1项所述之装置,其 特征在于:用于 释放出校准的光脉冲的装置(29)包括第一和第二微 型通道 板(34a,34b),起线性放大器作用的第一微型通道板(34 a )和入口处与一个光电阴极(32a)成对地联结,起饱和 放大 器作用的第二个微型通道板的出口处与一个萤光 屏(36)成 对地联结,萤光屏(36)对于所有输入的光脉冲释放 出校准 强度的输出的光信号,其强度超过了固定的极限値 。5.如申请专利范围第1项所述之装置,其特征在于 :用于 定位和计数的装置包括一个具有耦合荷载的矩阵 装置(58) 。6.如申请专利范围第1项所述之装置,其特征在于 :电荷 的放大装置包括一个混合气体(17),它可以被能产 生电荷 的装置(16)所释放出的电荷所电离;还有装置(19,23), 它们至少可以使电离后的混合气体得到电位差。7 .如申请专利范围第6项所述之装置,其特征在于:光 子 的放大装置(17)是由前述的适于电离化的混合气体 所组成 ,这种混合气体至少含有一种光电发射性的气体。 8.如申请专利范围第7项所述之装置,其特征在于: 上述 的光电发射气体是三乙胺。9.如申请专利范围第1 项所述之装置,其特征在于:用于 产生电荷的装置(16)包括一个明显呈平面的牢固的 光电图 像变换器(变像器)。图1是本发明装置的示意图;图 2是 带电粒子的放大装置的局部示意图,该装置能相应 的光子 。图3是图像增强装置的剖面示意图;图4是微型通 道板 的其中一个通道的剖面示意图;图5是另一种图像 增强装 置的剖面示意图;图6是又另一种图像增装置的剖 面示意 |
