发明名称 | 镍-钨非晶镀层及微晶镀层的电镀 | ||
摘要 | 将镍钨镀层(30)通过电镀液电镀到基体(34)上,所述电镀液中含有约0.034至约0.04mol/l的镍、约0.15至约0.28mol/l的钨、约0.13至约0.43mol/l的羟基羧酸、以0或约0.077至约0.15mol/l的硼。该镀液的pH为约6至约9,而且电镀最好在约100至约140温度下进行。 | ||
申请公布号 | CN1092480A | 申请公布日期 | 1994.09.21 |
申请号 | CN93119880.1 | 申请日期 | 1993.12.17 |
申请人 | 非晶技术国际有限公司 | 发明人 | 戴维·M·斯克鲁格斯;杰拉尔德·A·克鲁普尼克 |
分类号 | C25D3/56 | 主分类号 | C25D3/56 |
代理机构 | 上海专利事务所 | 代理人 | 陈亮 |
主权项 | 1、在基体沉积镍-钨镀层的电镀方法,其包括的步骤为:制备一种电镀液,其中含有:约0.034X至约0.047X mol/L的镍,约0.15X至约0.28X mol/L的钨,约0.13X至约0.43X mol/L的羟基羧酸,以及硼,其量选自0及约0.77X至约0.15X mol/L,其中X为比例换算系数,可在约0.67至约1.7的范围内变化,而且该镀液的pH为约6至约9;以及在所述电镀液中,将镀层电镀到基体上。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚 |