发明名称 镍-钨非晶镀层及微晶镀层的电镀
摘要 将镍钨镀层(30)通过电镀液电镀到基体(34)上,所述电镀液中含有约0.034至约0.04mol/l的镍、约0.15至约0.28mol/l的钨、约0.13至约0.43mol/l的羟基羧酸、以0或约0.077至约0.15mol/l的硼。该镀液的pH为约6至约9,而且电镀最好在约100至约140温度下进行。
申请公布号 CN1092480A 申请公布日期 1994.09.21
申请号 CN93119880.1 申请日期 1993.12.17
申请人 非晶技术国际有限公司 发明人 戴维·M·斯克鲁格斯;杰拉尔德·A·克鲁普尼克
分类号 C25D3/56 主分类号 C25D3/56
代理机构 上海专利事务所 代理人 陈亮
主权项 1、在基体沉积镍-钨镀层的电镀方法,其包括的步骤为:制备一种电镀液,其中含有:约0.034X至约0.047X mol/L的镍,约0.15X至约0.28X mol/L的钨,约0.13X至约0.43X mol/L的羟基羧酸,以及硼,其量选自0及约0.77X至约0.15X mol/L,其中X为比例换算系数,可在约0.67至约1.7的范围内变化,而且该镀液的pH为约6至约9;以及在所述电镀液中,将镀层电镀到基体上。
地址 美国加利福尼亚