| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR SUBSTRATE TREATMENT EQUIPMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06260547(A) |
申请公布日期 |
1994.09.16 |
| 申请号 |
JP19930047737 |
申请日期 |
1993.03.09 |
| 申请人 |
HITACHI LTD;HITACHI HOKKAI SEMICONDUCTOR LTD |
发明人 |
HIRANABE MASASHI |
| 分类号 |
B65G49/07;H01J37/317;H01L21/265;H01L21/677;H01L21/68;(IPC1-7):H01L21/68 |
主分类号 |
B65G49/07 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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