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发明名称 Plasmabearbeitungsvorrichtung.
摘要
申请公布号 DE69008228(T2) 申请公布日期 1994.09.08
申请号 DE19906008228T 申请日期 1990.04.11
申请人 TOKYO ELECTRON LTD., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 AOKI, MAKOTO, MIDORI-KU, YOKOHAMA-SHI, JP;TAHARA, YOSHIFUMI, YAMATO-SHI, KANAGAWA-KEN, JP;ARAI, IZUMI, YOKOHAMA-SHI, JP
分类号 H01L21/302;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/31;H01L21/687;(IPC1-7):H01L21/00 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
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