| 摘要 |
Selon ce procédé, une plaque de diaphragmes de mesure (4), disposée sur le trajet du faisceau de mesure (M) et comportant plusieurs diaphragmes de mesure discrets (2, 3), et une plaque de masques (11) disposée sur le trajet du faisceau de réflexion (E) à proximité d'un réticule (7) et comportant plusieurs masques discrets (12, 13) sont déplacées de manière synchrone de telle sorte que chaque diaphragme de mesure (2 ou 3) positionné sur le trajet du faisceau de mesure (M) soit représenté simultanément, sur le trajet du faisceau de réflexion (E), au moyen du masque correspondant (12 ou 13) et du réticule (7) présentant les contours des diaphragmes de mesure (2, 3), dans le plan de l'image oculaire intermédiaire (19) situé sur le trajet du faisceau d'observation (B). Le dispositif est conçu de telle manière que le réticule (7) contienne le contour ou des fragments de contour inversés des diaphragmes de mesure (2, 3) disposés sur la plaque des diaphragmes de mesure (4), par exemple sous la forme de lignes, de lignes interrompues, de points ou de croix rectangulaires. Ces contours se trouvent sur le réticule opaque (7) sous forme de creux transparents, de sorte que l'observateur voit clairement les image des contours correspondants dans l'image oculaire intermédiaire (19). A la place d'une plaque de diaphragmes de mesure (4) ou d'une plaque de masques (11), on peut prévoir une paire de plaques de diaphragmes de mesure ou une paire analogue de plaques de masques. On peut ainsi réaliser des diaphragmes ou des masques présentant un grand nombre de formes géométriques différentes. |
