发明名称 Apparatus and process for chemical vapor deposition.
摘要
申请公布号 EP0371796(B1) 申请公布日期 1994.08.31
申请号 EP19890312477 申请日期 1989.11.30
申请人 FUJITSU LIMITED 发明人 KIMURA, TAKAFUMI
分类号 H01L21/365;C23C16/40;C23C16/448;(IPC1-7):C23C16/44;H01L39/24 主分类号 H01L21/365
代理机构 代理人
主权项
地址