| 发明名称 |
POSITIVE PHOTORESIST HAVING IMPROVED PROCESSABILITY |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06239937(A) |
申请公布日期 |
1994.08.30 |
| 申请号 |
JP19930339657 |
申请日期 |
1993.12.03 |
| 申请人 |
CIBA GEIGY AG;O C G MIKUROEREKUTORONIKUSU INC |
发明人 |
URURITSUHI SHIEEDERI;NORUBERUTO MIYUNTSUERU |
| 分类号 |
C08F12/22;C08F12/00;C08F22/36;C08F22/40;C08F222/40;C08K5/20;C08L25/00;C08L25/18;C08L33/04;C08L33/24;C08L35/00;G03F7/004;G03F7/039;(IPC1-7):C08F12/22 |
主分类号 |
C08F12/22 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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