发明名称 |
FORMATION OF SILICON OXIDE FILM |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH06232116(A) |
申请公布日期 |
1994.08.19 |
申请号 |
JP19930016283 |
申请日期 |
1993.02.03 |
申请人 |
SONY CORP |
发明人 |
FUKUSHO TAKASHI;YAMANE JUNJI;MATSUDA TAKESHI |
分类号 |
C23C16/52;H01L21/205;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/316 |
主分类号 |
C23C16/52 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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