| 主权项 |
1.式(I)之8-氟 素环素配糖物:其中R为H,OH;RC_1C 为H,OH,OCHC_3C;以及-NHC_2C表示胺取代基可在轴向 或赤道向之结构;以及其于药学上可接受之加成盐 。2.4-去甲氧基-8-氟-3'-去胺基-4'-去氧基-4'- 胺基道诺红菌素或其对应之氢氯化物。3.4-去甲氧 基-8-氟-3'-去胺-4'-去氧基-4'- epi-胺基道诺红菌素或其对应之氢氯化物。4.8-氟-3 '-去胺基-4'-去氧基-4'-胺基道诺红菌 素或其对应之氢氯化物。5.8-氟-3'-去胺基-4'-去氧 基-4'-epi-胺基道诺 红菌素或其对应之氢氯化物。6.4-去甲氧基-8-氟-3' -去胺基-4'-去氧基-4'- 胺基道诺红菌素或其对应之氢氯化物。7.4-去甲氧 基-8-氟-3'-去胺基-4'-去氧基-4'- epi-胺基道诺红菌素或其对应之氢氯化物。8.8-氟-3 '-去胺基-4'-去氧基-4'-胺基道诺红菌 素或其对应之氢氯化物。9.8-氟-3'-去胺基-4'-去氧 基-4'-epi-胺基道诺 红菌素或其对应之氢氯化物。10.8-氟-3'-去胺基-4'- 去氧基-4'-胺基道诺红菌 素或其对应之氢氯化物。11.8-氟-3'-去胺基-4'-去氧 基-4'-胺基-道诺红 菌素或其对应之氢氯化物。12.一种用于抗肿瘤之 医药组成物,包含一种或多种如申 请专利范围第1项中所述之式(I)之化合物或其治疗 上可 接受之盐类作为活性成分,并混合钝性稀释剂与赋 形剂。13.如申请专利范围第1项所述式(I)之 素环 素配糖物, 或其药学上可接受之盐类,系作为抗肿瘤剂之用途 。14.通式(Ⅱ)之化合物:其中RC_1C如申请专利范围 第1项 所定义者。15.一种制备如申请专利范围第14项之 式(Ⅱ)之8-氟 素 环素酮之方法,其中RC_1C如申请专利范围第1项所定 义 ,其中将式(V)之环氧醇:其中RC_1C如申请专利范围第 1 项所定义,氧化为对应之式(Ⅵ)的环氧酮:其中RC_1C 如 申请专利范围第1项所定义,再将该环氧酮与亲核 子氟产 生剂反应,可得到对应之式(Ⅶ)氟羟基酮:可藉由溴 化和 溶解作用,以及,若适合的话,保护酮基团将上述式( Ⅶ) 之氟羟基酮转化为对应之式(Ⅱ)的8-氟 素环酮。16 .如申请专利范围第15项所述之制法,其中式(V)之环 氧 醇于二甲基亚或铬-啶错合物之存在下进行氧化 作用。17.如申请专利范围第15项所述之制法,其中 以啶中之 氢氟酸-啶错合物使式(Ⅵ)之环氧酮的环氧乙烷( oxirane)环开启。18.如申请专利范围第15项所述之制 法,其中溶于四氯化 碳之式(Ⅶ)的氟羟基酮在回流状况,自由基引发剂( radical initator)之存在下,以溶于水中之溴处理。19. 通式(Ⅵ)之化合物:其中RC_1C如申请专利范围第1项 所定义者。20.通式(Ⅶ)之化合物:其中RC_1C如申请 专利范围第1项 所定义者。21.式(Ⅲa)之化合物,其中X为氯,对-硝基 醯氧基且R C_2C为三氟乙醯胺基团,烯丙氧基羧醯胺基团。22. 式(Ⅲe)之化合物,其中X为氯,对-硝基 醯氧基且R C_2C为三氟乙醯胺基团,烯丙氧基羧醯胺基团。23. 根据申请专利范围第21项式(Ⅲa)之化合物,其中X为 p -硝基-苯甲醯氧基团,且RC_2C为三氟乙醯胺基团。24 .根据申请专利范围第22项式(Ⅲe)之化合物,其中X 为p -硝基-苯甲醯氧基团,且RC_2C为三氟乙醯胺基团。25 .根据申请专利范围第21项式(Ⅲa)之化合物,其中X 为 氯,且RC_2C为烯丙氧基羧醯胺基团。26.根据申请专 利范围第22项式(Ⅲe)之化合物,其中X为 氯,且RC_2C为烯丙氧基羧醯胺基团。27.根据申请专 利范围第21项式(Ⅲa)之化合物,其中X为p -硝基-苯甲醯氧基团,且RC_2C为烯丙氧基羧醯胺基 团 。28.根据申请专利范围第22项式(Ⅲe)之化合物,其 中X为p -硝基-苯甲醯氧基团,且RC_2C为烯丙氧基羧醯胺基 团 。29.一种制备如申请专利范围第21及22项所定义式 (Ⅲa)和 式(Ⅲe)之化合物的方法,包括:a)将式Ⅷ之甲基-2,3 ,6-三去氧基-C--丙三氧基-喃己糖 --酮:与 羟胺(hydroxylamine)或其酸加成盐反应,可得到式(Ⅸ) 之同侧(syn)和异侧(anti) 的混合物:b)还原上述混合 物,之后以三氟乙醯基团保护所形成胺基,并且分 离式( Xa)和(Xe)之4-N-三氟乙醯化的差向立体异构物( epimers):或者,若较佳的话,以烯丙氧基羰基团保护 胺 基,接着分离式(XIa)和(XIe)之4-N-烯丙氧基羰基化之 差向立体异构物:c)对于上述步骤外,另外可采取之 步骤 为:于铵盐之存在下,将式(Ⅷ)之甲基-2,3,6-三去 氧基-C--丙三氧基-喃己糖 --酮-与还原剂反 应,以三氟乙醯基团保护所形成之胺基;或者,若较 合宜 的话,以烯丙氧基羰基团保护,接着分离式(Xa)和(Xe) 或 式(XIa)和(XIe)之差向立体异构物:d)将每个(Xa)和(Xe) 之差向立体异构转化为对应之式(XIIa)和(XIIe)的1- 羟 基衍生物:或者,若较合宜的话,将式(XIa)和(XIe)之差 向立体异构转化为对应之式(XIIIa)和(XIIIe)之1-羟基 衍生物:e)将上述式(XIIa)和(XIIe)或式(XIIIa)和( XIIIe)之1-羟基衍生物转化为对应式(Ⅲa)和(Ⅲe)之 化 合物,其中X为氯且RC_2C如申请专利范围第10项所定 义, 或者,若较合宜的话,将上述式(XIIa)和(XIIe)或式( XIIIa)和(XIIIe)之1-羟基衍生物转化为对应之式(Ⅲa) 和(Ⅲe)之化合物,其中X为p-硝基苯甲醯氧基且RC_2C 如 申请专利范围第12项所定义。30.如申请专利范围 第29项所述之制法,其中在步骤b)之 还原作用于-20℃至20℃之温度下,以四氢 喃,甲苯 或 二恶烷中之硼烷来进行。31.如申请专利范围第29 项所述之制法,其中在步骤c)之 还原作用于-20℃至20℃之温度间,乙酸铵或氯化铵 于四 氢 喃,二乙醚,甲醇或乙醇中之溶液的存在下,以氰 基 氢化硼纳(Sodium cyanoboro hybride)来进行如申请专利 范围第29项所述之制法。32.如申请专利范围第29项 所述之制法,其中所得已还原 之混合物于有机硷之存在下,与三氟乙酐于四氯化 碳或二 乙醚中之溶液反应,可得N-三氟乙醯化之衍生物的 混合 物,接着可进行色层分离而得到式(Xa)和式(Xe)之化 合物 。33.如申请专利范围第29项所述之制法,其中所得 到已还 原之混合物,在-20℃至20℃之温度及啶或三乙胺 之存 在下,与四氢 喃中之烯丙基碳酸盐反应,可得到N- 烯 丙基-羰基化衍生物的混合物,接着进行色层分离, 可得 到式(XIa)及(XIe)之化合物。34.如申请专利范围第29 项所述之制法,其中步骤d)可藉 由加热每个式(Xa)和(Xe)或(XIa)和(XIe)之甲基配糖差 向 立体异构物与5-之乙酸,三氟乙酸或盐酸水溶液而 进行 ,且可得到式(XIIa)与(XIIe)或式(XIIIa)与(XIIIe)之1 -羟基差向立体异构衍生物。35.如申请专利范围第 29项所述之制法,步骤e)之进行可 藉由将每个式(XIIa)与(XIIe)或式(XIIIa)与(XIIIe)之1 -羟基差向立体异构衍生物先以三氟乙酐于0℃下 处理隔 夜,接着以氢氯酸气体处理,可得到式(Ⅲa)与(Ⅲe) 之差 向立体异构物,其中X为氯且RC_2C如之前所定义者。 36.如申请专利范围第29项所述之制法,其中步骤e) 之进 行乃将每个式(XIIa)与(XIIe)或式(XIIIa)(XIIIe)之1- 羟基差向立体异构衍生物以p-硝基苯甲醯氯于 啶或二 甲基甲醯胺或二甲基亚中之溶液,于有机硷之存在 下处理 ,可得到式Ⅲ与Ⅲ之差向立体异构物,其中X为p-硝 基苯 甲醯基氧基且RC_1C如之前所定义者。37.式(Xa)之化 合物:38.式(Xe)之化合物:39.式(XIa)之化合物:40.式(XIe )之化合物:41.式(XIIa)之化合物:42.式(XIIe)之化合物: 43.式(XIIIa)之化合物: |
