| 发明名称 |
FORMATION OF INSULATING FILM AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THIS FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06232117(A) |
申请公布日期 |
1994.08.19 |
| 申请号 |
JP19930017609 |
申请日期 |
1993.02.04 |
| 申请人 |
SONY CORP |
发明人 |
SAMEJIMA TOSHIYUKI;MORI HIROSHI;KONO ATSUSHI;HARA MASATERU;SANO NAOKI;SEKIYA MITSUNOBU;KANETANI YASUHIRO;YANO MICHIHISA |
| 分类号 |
H01L21/205;H01L21/316;H01L21/336;H01L29/78;H01L29/786;(IPC1-7):H01L21/316;H01L29/784 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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