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发明名称 Verfahren zur plasmaunterstützten Scheibenreinigung bei der Herstellung integrierter Halbleiterschaltungen
摘要
申请公布号 DE4132561(C2) 申请公布日期 1994.08.18
申请号 DE19914132561 申请日期 1991.09.30
申请人 SIEMENS AG, 80333 MUENCHEN, DE 发明人 STEINHARDT, HEINZ, DIPL.-ING. PHYS., WIEN, AT;HIEBER, KONRAD, DIPL.-PHYS. DR., 8011 NEUKEFERLOH, DE;BUSMANN, EGON, DIPL.-PHYS. DR., 8000 MUENCHEN, DE
分类号 B08B7/00;H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/306;C23F4/00;H05H1/46 主分类号 B08B7/00
代理机构 代理人
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