复合真空离子镀膜设备

摘要

一种复合真空离子镀膜设备。在真空室的中心轴线上装有一个圆柱形并且至少分为四段的多弧磁控溅射组合靶；真空室的侧壁上，至少装有三个磁控多弧蒸发源17；真空室内装有可以公转、自转，并可施加负偏压的工件架12；并垂直悬挂一对可施加负压发射电子的热灯丝13。本实用新型用金量少，金的溅射均匀，工件装载量大，易于推广应用。

主权项

1、一种复合真空离子镀膜设备，由真空室、磁控装置、蒸发源和热灯丝组成；其特征在于：(1)真空室内的中心轴上，装有一个圆柱形并且至少分为四段的多段磁控溅射靶；(2)真空室的侧壁上，至少装有三个磁控多弧蒸发源[17]；(3)真空室内装有可以公转、自转，并可施加负偏压的工件架[12]；(4)真空室内垂直悬挂一对可施加负偏压发射热电子的热灯丝[13]；