| 摘要 |
La présente invention concerne un dispositif de traitements et de nettoyage de plaques à réacteur central, telles des pièces plates (11) à géométrie régulière comme par exemple des supports semi-conducteurs utilisés pour la réalisation de circuits intégrés, ou des disques optiques ou autres... Ce dispositif comprend une chambre (28) comportant des parois latérales, une paroi terminale (9), une ouverture dans une flasque avant (8) en regard de ladite paroi terminale, un moyen support permettant de porter plusieurs pièces (11), un moyen (15) d'introduction de fluides de traitements, un moyen (6) de fermeture de ladite chambre (28), un moyen d'évacuation (14) desdits fluides, de telle façon que l'on puisse traiter par ceux-ci lesdites pièces et vidanger ensuite la chambre. Ledit moyen support des pièces (11) est solidaire du moyen (6) de fermeture et est constitué de deux peignes (1) latéraux qui sont montés articulés sur des biellettes (16, 17) permettant, par basculement, leur écartement afin de permettre le passage desdites pièces (11) entre les peignes, puis leur rapprochement, afin qu'ils prennent appui sous celles-ci et les maintiennent dans ladite chambre. |
