ETCHING METHOD FOR SEMICONDUCTOR,申请号JP19930003880-传众专利搜索

发明名称	ETCHING METHOD FOR SEMICONDUCTOR
摘要
申请公布号	JPH06216091(A)	申请公布日期	1994.08.05
申请号	JP19930003880	申请日期	1993.01.13
申请人	HITACHI LTD	发明人	KAWADA MASAHIKO
分类号	C23F4/00;H01L21/302;(IPC1-7):H01L21/302	主分类号	C23F4/00
代理机构		代理人
主权项
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