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发明名称 Verfahren und Vorrichtung zum Härten von strukturierten Reliefbildern
摘要
申请公布号 DE3419217(C2) 申请公布日期 1994.08.04
申请号 DE19843419217 申请日期 1984.05.23
申请人 FUSION SEMICONDUCTOR SYSTEMS, ROCKVILLE, MD., US 发明人 MATTHEWS, JOHN C., GAITHERSBURG, MD., US
分类号 G03F7/38;G03C5/315;G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/40;H01L21/68 主分类号 G03F7/38
代理机构 代理人
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