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UNA PLACA DE RESINA FOTOSENSIBLE DESARROLLABLE POR AGUA ADECUADA PARA LA FABRICACION DE UNA PLACA DE IMPRESION DE RELIEVE QUE TIENE ALTA RESISTENCIA A LAS TINTAS CON BASE DE AGUA, ELEVADA ELASTICIDAD Y EXCELENTE ESTABILIDAD DE FORMA, QUE COMPRENDE: (A) UN COPOLIMERO QUE TIENE UNIDADES DE (I) UN MONOMERO DE DIENO CONJUGADO ALIFATICO, (II) UN ACIDO CARBOXILICO (ALFA),(BETA)-ETILENICAMENTE NO SATURADO, Y (III) UN MONOMERO VINILICO POLIFUNCIONAL, OPCIONALMENTE CON (IV) UN MONOMERO DE VINILO MONOFUNCIONAL, SIENDO EL CONTENIDO DE MONOMERO DE DIENO CONJUGADO ALIFATICO (I), EL ACIDO CARBOXILICO (ALFA),(BETA)-ETILENICAMENTE INSATURADO (II), EL MONOMERO VINILICO POLIFUNCIONAL (III) Y EL MONOMERO VINILICO MONOFUNCIONAL (IV), RESPECTIVAMENTE DE 5 A 95 % MOLAR APROXIMADAMENTE, DE 1 A 30 % MOLAR APROXIMADAMENTE, DE 0,1 A 10 % MOLAR APROXIMADAMENTE Y 0 A 70 % MOLAR APROXIMADAMENTE REFERIDO A LA COMBINACION DE LOS COMPONENTES MONOMEROS; (B) UN COMPUESTO BASICO QUE CONTIENE UN ATOMO DE NITROGENO; (C) UN MONOMERO ETILENICAMENTE INSATURADO; Y (D) UN INICIADOR DE FOTOPOLIMERIZACION.
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