| 发明名称 |
ETCHING METHOD FOR SILICON NITRIDE FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06204192(A) |
申请公布日期 |
1994.07.22 |
| 申请号 |
JP19920349325 |
申请日期 |
1992.12.28 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
JINBO SADAYUKI;OIWA NORIHISA;MORI HARUKI |
| 分类号 |
H01L21/302;H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/302 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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