| 主权项 |
1﹒一种式(I)苯并三唑磺酸衍生物 其中相对于取代基R3及R2,R1SO2在1 ─或3─位置或式(I)之此二位置之异 构物之混合物,及其中取代基如下列定义 R3=R4X; X=氧或硫; R4=不饱和6─员杂环其具有最多2个 气原子且可能为未被取代或至少被下列基 之一取代:卤素,C1─6烷基,C1─6烷氧 基,C1─6烷硫基,C1─6卤烷基,环丙基 ,氰基,及─COO(C1─6烷基); R2=氢,卤素,C1─4烷基,C1─4烷氧 基,或C1─4卤烷基; R1=C1─4烷基,或─N(烷基)2,其 中各烷基系C1─4烷基及其为相同或不同 键接至N。 2﹒如申请专利范围第1项之式(I)苯并三 唑磺酸衍生物,及其中取代基如下列定义 R3=R4X; X=氧或硫; R4=不饱和6─员杂环其具有最2个氮 原子及可能为未被取代或至少被下列基之 一取代:卤素,C1─6烷基,C1─6烷氧基 ,C1─6烷硫基,氰基,及─COO(C1─6烷 基); R2=氢,卤素,C1─4烷基,C1─4烷氧 基,或C1─4卤烷氧基; R1=C1─4烷基,或─N(烷基)2,其 中各烷基系C1─4烷基及其为相同或不同 键接至N。 3﹒如申请专利范围第2项之化合物,其中 R4系被取代啶,嘧啶,或唎 环。 4﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中6 ─员杂环系啶,嘧啶,或唎环 ,及系被一至三个取代基选自下列基所取 代:卤素,甲基,乙基,异丙基,甲氧基 ,C1─2卤烷基,其中卤素系F及/或C 1,及环丙基。 5﹒如申请专利范围第3项之化合物,其中6 ─员杂环系被一至三个取代基选自下列基 所取代:卤素,甲基,乙基,异丙基,甲 氮基,C1─2卤烷基,其中卤素系F及/ 或C1。 6﹒如申请专利范围第2项之化合物,其中6 ─员杂环系未被取代,或被单─至三─取 代啶,及R2系氢,氟,氯,溴,甲基 ,甲氧基,或CF3。 7﹒如申请专利范围第6项之化合物,其中 R2系氢,氯或溴。 8﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中 R4系啶且啶环被最多三个取代基选 目下列之基所取代:卤素,C1─4烷基, C1─4烷氧基,C1─41烷基,及环丙基。 9﹒如申请专利范围第6项之化合物,其中 啶环系被最多三个取代基选自下列基所取 代:卤素,C1─4烷基,C1─4烷氧基,及 C1─4卤烷基。 10﹒如申请专利范围第9项之化合物,其中 啶环系至少被CF3取代。 11﹒如申请专利范围第2项之化合物,其中 6员杂环系未被取代或被单─至三─取代 嘧啶,及R2系氢,氟,氯,溴,甲基, 甲氧基,或CF3。 2﹒如申请专利范围第11项之化合物,其中 R2系氢,氯或溴。 3﹒如申请专利范围第11项之化合物,其中 嘧啶环系被最多三个取代选自下列基所取 代:卤素,C1─4烷基,C1─4烷氧基,及 C1─4卤烷基。 4﹒如申请专利范围第2至13项任一项之化 合物,其中R1系甲基。 5﹒如申请专利范围第1至13项任一项之化 合物,其中4─位置之苯并三唑环系未被 取代。 16﹒如申请专利范围第14项之化合物,其中 4─位置之苯并三唑环系未被取代。 17﹒一种制备式(I)化合物之方法,该方 法包括: 1)使式(II)化合物: 与式(III)化合物反应, Q─SO2─R1 (III) 其中X,R1,R2及R4如式(I)中所 定义,及M系氢或硷金属,及Q系卤原子 ,或O─SO2─R1,该反应系在惰性溶剂 ,在有或无硷存在下及在从─30至180 ℃之温度进行,或 2)重氮化式(IV)化合物, 其中X,R1,R2及R4如式(I)中所 定义,其在下列之一条件下进行 a)与无机亚硝酸盐在溶剂中,在酸存在下 ,在─30至+180℃之温度为之,或 b)与有机亚硝酸盐,在有或无酸存在下, 及在─30至+180℃之温度为之。 18﹒一种用于防治植物病原霉菌袭之组成 物,包括一种依申请专利范围第1,4或 8项之式(I)化合物为活性成份配合适 宜的载体而成。 19﹒一种防治植物病原霉菌之方法,包括施 用依申请专利范围第1,4或8之式(I )化合物至植物,植物之部分或植物滋养 土壤。 |
