| 摘要 |
<p>SE PUEDE PROPORCIONAR PROTECCION ANTIESTATICA A UN SUBSTRATO DANDO DOS RECUBRIMIENTOS O CAPAS AL SUBSTRATO. LA PRIMERA CAPA COMPRENDE UNA MEZCLA ENTRECRUZADA DE DOS POLIMEROS POR LO MENOS, CONTENIENDO UNO DE LOS POLIMEROS UN GRUPO EPOXI REACTIVO, Y EL OTRO UN GRUPO QUE CONTIENE HIDROGENO LIBRE SALIFICADO, QUE ENTRELAZA CON EL REVESTIMIENTO, Y LA SEGUNDA CAPA ES UNA SUBCAPA QUE CONTIENE UN AGENTE DE ACOPLAMIENTO DE SILANO AMBIFUNCIONAL. EL SUBSTRATO REVESTIDO ES ESPECIALMENTE UTIL PARA MEDIOS FOTOGRAFICOS.</p> |
