| 发明名称 |
METHOD AND EQUIPMENT FOR INSPECTING MIRROR FACE SUBSTRATE IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING LINE AND METHOD FOR MANUFACTURING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06194320(A) |
申请公布日期 |
1994.07.15 |
| 申请号 |
JP19920345889 |
申请日期 |
1992.12.25 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
NOGUCHI MINORU;MORIOKA HIROSHI;KENBO YUKIO |
| 分类号 |
G01B11/24;G01B11/245;G01N21/88;G01N21/94;G01N21/956;G01Q30/02;G01Q60/12;H01L21/66;(IPC1-7):G01N21/88 |
主分类号 |
G01B11/24 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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