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发明名称 Photoempfindliche Zusammensetzung, Herstellungs- und Anwendungsverfahren.
摘要
申请公布号 DE3789154(T2) 申请公布日期 1994.07.14
申请号 DE19873789154T 申请日期 1987.03.25
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, KAWASAKI, KANAGAWA 发明人 HAYASE, SHUZI, SAIWAI-KU,KAWASAKI-SHI KANAGAWA-KEN;ONISHI, YASUNOBU G-508 TOMIOKASEASIDE-CORPO, YOKOHAMA-SHI KANAGAWA-KEN;HORIGUCHI, RUMIKO, YOKOHAMA-SHI KANAGAWA-KEN
分类号 G03C1/72;G03F7/012;G03F7/021;G03F7/023;G03F7/032;G03F7/038;(IPC1-7):G03F7/012 主分类号 G03C1/72
代理机构 代理人
主权项
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