发明名称 MOS-Speicherzelle mit einem exponentiellen Dotierungsprofil und mit versetztem Tunneloxid des schwebenden Gates.
摘要
申请公布号 DE69009221(D1) 申请公布日期 1994.07.07
申请号 DE19906009221 申请日期 1990.02.14
申请人 NATIONAL SEMICONDUCTOR CORP., SANTA CLARA, CALIF. 发明人 ARONOWITZ, SHELDON, SAN JOSE, CA 95127;FORSYTHE, DONALD D., PALO ALTO, CA 95010;WALKER, GEORGE P., CAPITOLA, CA 95010;GADEPALLY, BAHSKAR V.S., SAN JOSE, CA 95129
分类号 H01L21/8247;H01L27/115;H01L29/10;H01L29/36;H01L29/788;H01L29/792;(IPC1-7):H01L29/788 主分类号 H01L21/8247
代理机构 代理人
主权项
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