发明名称 |
CLEANING METHOD FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH06188223(A) |
申请公布日期 |
1994.07.08 |
申请号 |
JP19920340167 |
申请日期 |
1992.12.21 |
申请人 |
FUJITSU LTD;FUJITSU KANTAMU DEVICE KK |
发明人 |
HIRAI YASUO |
分类号 |
C23F4/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/302 |
主分类号 |
C23F4/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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