| 发明名称 |
METHOD AND DEVICE FOR REPLACING GAS IN MAIN CHAMBER IN VERTICAL SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06177054(A) |
申请公布日期 |
1994.06.24 |
| 申请号 |
JP19920349720 |
申请日期 |
1992.12.01 |
| 申请人 |
SHINKO ELECTRIC CO LTD |
发明人 |
KONO HITOSHI;OKUNO ATSUSHI;NAGASHIMA HIROSHI;YAMASHITA TAKASHI |
| 分类号 |
C30B25/14;H01L21/205;H01L21/22;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
C30B25/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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