Method and Apparatus for Optical Emission End Point Detection in Plasma Etching Process,申请号CA19932104072-传众专利搜索

发明名称	Method and Apparatus for Optical Emission End Point Detection in Plasma Etching Process
摘要
申请公布号	CA2104072(A1)	申请公布日期	1994.06.24
申请号	CA19932104072	申请日期	1993.08.13
申请人	INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION	发明人	O'NEILL, JAMES A.;PASSOW, MICHAEL L.;SINGH, JYOTHI
分类号	G01J3/00;G01J3/443;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;H05H1/00;H05H1/46;(IPC1-7):G01J3/28	主分类号	G01J3/00
代理机构		代理人
主权项
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