| 摘要 |
<p>Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung einer ganzflächigen oder partiellen metallischen Schicht (2M) auf einem Substrat (1) aus einem organischen oder anorganischen Werkstoff. Die metallische Schicht (2M) wird aus einer chemischen Verbindung gebildet, die eine metallische Komponente aufweist. Die Verbindung wird zunächst verdampft, durch Kondensation auf der Oberfläche des Substrats (1) abgeschieden und durch Bestrahlen mit UV-Strahlung in eine metallische Schicht (2M) umgesetzt. Zur Erzielung einer hohen Homogenität innerhalb der Metallschicht (2M) und zur Ausbildung eines scharfen Kantenbereichs wird das Substrat (1) während des Abscheidens der chemischen Verbindung und der Bestrahlung auf eine Temnperatur gekühlt, die im Kryotemperaturbereich liegt.</p> |
