| 发明名称 |
METHOD FOR TREATING WASTE WATER CONTAINING HYDROGEN PEROXIDE IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06170355(A) |
申请公布日期 |
1994.06.21 |
| 申请号 |
JP19920323530 |
申请日期 |
1992.12.03 |
| 申请人 |
KURITA WATER IND LTD |
发明人 |
MIYATA HIROSHI;ITO ICHIRO;FUKASE TETSURO;NUMAKURA TAKAO |
| 分类号 |
C02F1/00;C02F1/58;(IPC1-7):C02F1/00 |
主分类号 |
C02F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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