| 摘要 |
<P>L'invention concerne un masque de transfert d'un motif à utiliser dans un procédé d'exposition optique. <BR/> Selon l'invention, il comprend un substrat transparent (6) ayant une surface, un film de protection de la lumière d'un motif souhaité (7a) disposé sur la surface du substrat transparent (6), pour protéger une partie du film en vernis photosensible de la lumière transmise à travers le masque et incidente sur le film et transférer le motif souhaité à ce film et un certain nombre de protubérances (7b) disposées à des intervalles égaux de chaque côté du motif du film (7a), contactant ce motif, pour réduire l'intensité de la lumière transmise à travers une région du substrat transparent (6) où se trouvent les protubérances (7b). <BR/> L'invention s'applique notamment à la fabrication des transistors à effet de champ.</P> |
