发明名称 PLASMA TREATING METHOD USING HYDROGEN GAS
摘要
申请公布号 KR940005287(B1) 申请公布日期 1994.06.15
申请号 KR19910010712 申请日期 1991.06.26
申请人 FUJITSU LTD. 发明人 FUJIMURA SHUZO;TAKEUCHI, TATSUYA;NAKANO, YOSHIMASA;MIYANAKA, TAKESHI;MADOBA, YUJI
分类号 C23C16/02;G03F7/36;G03F7/40;H01L21/306;H01L21/311;H01L21/321;(IPC1-7):H01L21/31 主分类号 C23C16/02
代理机构 代理人
主权项
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