| 摘要 |
<p>Polymere mit einem Molekulargewicht (Gewichtsmittel) Mw von 10³ bis 10<6> enthaltend wiederkehrende Struktureinheiten der Formeln (I), (IIa) und (IIb) <IMAGE> worin R1 Wasserstoff oder Methyl bedeutet, Y für eine direkte Bindung oder einen zweiwertigen Rest der Formel (III) steht, <IMAGE> worin Z eine an den Phenylkern gebundene C1-C6-Alkylengruppe bedeutet, OR2 einen säurespaltbaren Rest darstellt, worin R2 C4-C10-tert.-Alkyl, unsubstituiertes oder durch eine oder mehrere C1-C6-Alkylgruppen, C1-C6-Alkoxygruppen oder Halogenatome substituiertes Allyl, Cyclohex-2-enyl, C6-C14-Aryl oder C7-C16-Aralkyl, Trialkylsilyl, oder eine Gruppe der Formeln (IV)-(VII) darstellt <IMAGE> worin R8 C1-C6-Alkyl oder unsubstituiertes oder durch eine oder mehrere C1-C6-Alkylgruppen, C1-C6-Alkoxygruppen oder Halogenatome substituiertes C6-C14-Aryl oder C7-C16-Aralkyl bedeutet, R3 und R4 unabhängig voneinander für Wasserstoff, C1-C6-Alkylgruppen, C1-C6-Alkoxygruppen oder Halogenatome stehen, R5 und R6 unabhängig voneinander Wasserstoff oder Methyl bedeuten, X für C1-C6-Alkylen und R7 für C1-C6-Alkyl, unsubstituiertes oder durch eine oder mehrere C1-C6-Alkylgruppen, C1-C6-Alkoxygruppen oder Halogenatome substituiertes C6-C14-Aryl oder C7-C16-Aralkyl oder für -CO-R8 steht, worin R8 die gleiche Bedeutung wie in Formel (IV) hat, eignen sich in zur Verwendung in DUV-Positiv-Photoresists, die stark reduzierte delay time-Effekte zeigen und sich durch hohe thermische Stabilität und hohes Auflösungsvermögen auszeichnen.</p> |
