发明名称 水溶性单偶氮染料
摘要 一种具有下式(I)之游离酸型式的水溶性单偶氮染料:□ (Ⅰ)式中X为-CH=CH2或-CH2CH2W,其中W为可藉移除之脱离基;R1为甲基,-NHCONH2或-NHCOT1,其中T1为甲基,乙基,-CH2CH2COOH或-CH=CHCOOH;R2为氢,低烷基或低烷氧基;且Z为 CC 或CC 其中P为氰基或卤素,Q及U各为卤素,V为卤素或 CC ,且Y为卤素或具下式(1)或(2)之基:□(1)□ (2)式中R3为氢或低烷基,A为C1-C4烷基或经选自磺酸基及羧酸中之至少一者所取代之基,或经选自磺酸基及羧酸基中至少一者所取代之苯基,且其可经选自羟基,卤素,C1-C2烷基及C1-C2烷氧基中之至少一者所取代,R4为氢或C1-C4烷基,E为未取代或经低烷基,低烷氧基,卤素或磺酸基所取代之伸苯基,未取代或经磺酸基,C1-C4伸烷基或C1-C4伸烷氧基C1-C4伸烷基所取代之基,且X如上定义。
申请公布号 TW224984 申请公布日期 1994.06.11
申请号 TW082102880 申请日期 1993.04.15
申请人 德司达股份有限公司 发明人 姫野清;高桥阳介;清水幸晴;桧原利夫
分类号 C09B62/51;C09B67/24;C09B67/36 主分类号 C09B62/51
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1﹒一种具有下式(I)之游离酸型式的水溶 性单偶氮染料: 式中X为─CH=CH2或─CH2CH2W,其中 W为可藉移除之脱离基;R1为甲基, ─NHCONH2或─NHCOT1,其中T1为甲基 ,乙基, ─CH2CH2COOH或─CH=CHCOOH;R2为氢 ,低烷基或低烷氧基; 且Z为 或 其中P为氰基或卤 素,Q及U各为卤素,v为卤素或 ,且Y为卤素或具下式(1)或(2)之基: 式中R3为氢或低烷基,A为C1─C4烷 基或经选自磺酸基及羧酸中之至少一者所 取代之基,或经选自磺酸基及羧酸基中 至少一者所取代之苯基,且其可经选自经 基,卤素,C1─C2烷基及C1─C2烷氧 基中之至少一者所取代,R4为氢或C1─ C4烷基,E为未取代或经低烷基,低烷 氧基,卤素或磺酸基所取代之伸苯基,未 取代或经磺酸基所取代之基,C1─ C4伸烷基或C1─C4伸烷氧基C1─C4 伸烷基,且X如上定义。 2﹒如申请专利范围第1项之单偶氮染料,其 具下式(I') 其中R1,R2,X和Z分别有如申请专利 范围第1项中所定义之意义。 3﹒如申请专利范围第1项之单偶氮染料,其 中Z为 其中V和Y分别有如申请专利范围第1项 中所定义之意义。 4﹒如申请专利范围第3项之单偶氮染料,其 中v为 其中R3和A分别有如申请专利范围第1 项中研定义之意义。 5﹒如申请专利范围第3项之单偶氮染料,其 中V为 6﹒如申请专利范围第3项之单偶氮染料,其 中Y为氟或氯,且v为 7﹒如申请专利范围第1项之单偶氮染料,其 中R1为─NHCONH2,且Z为 其中V和Y分别有如申请专利范围第1项 中所定义之意义。 8﹒如申请专利范围第3项之单偶氮染料,其 中Y为─N─E─SO2X或─N E─ SO2X)2,其中R4为氢或C1─C4烷基 ,X是─CH=CH2或─CH2CH2W,其中W 是可藉移除之脱离基,E有如申请专利 范围第1项中所定义之意义。 9﹒如申请专利范围第8项之单偶氮染料,其 中E为─ 或─C2H4OC2H4─。 10﹒如申请专利范围第3项之单偶氮染料, 其中Y为,其中X是─CH= CH2或─CH2CH2W,其中W是可藉移除 之脱离基。 11﹒如申请专利范围第3项之单偶氮染料, 其中Y为 ,其中X是─CH= CH2或─CH2W,其中W是可藉移除 之脱离基,且V为氟或氯。 12 如申请专利范围第1项之单偶氮染料, 其中Z为 其中Y为 (其中X有如申请专利范围第1项中所定 义之意义) V为氟或氯,且R1为─NHCOCH3, ─NHCH2CH2COOH或, ─NHCH=CH─COOH。 13 ﹒如申请专利范围第12项之单偶氮染料, 其中R1为─NHCH2CH2COOH或─N HCH=CH ─COOH。 14﹒如申请专利范围第1项之单偶氮染料, 其中Z为 其中p、Q和U分别有如申请专利范围第 1项中研定义之意义。 15 ﹒如申请专利范围第14项之单偶氮染料, 其中Z为 16﹒如申请专利范围第1项之单偶氮染料, 其中R1为─N HCH2CH2COOH或─NHCH=CH ─COOH,且Z为 其中p、Q和Z分别有如申请专利范围第 1项中所定义之意义。
地址 日本