| 发明名称 |
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD OF TITANIUM SILICIDE ONTO SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06163435(A) |
申请公布日期 |
1994.06.10 |
| 申请号 |
JP19930197147 |
申请日期 |
1993.08.09 |
| 申请人 |
MICRON TECHNOL INC |
发明人 |
TOURUN TOURI DOON;GURUTEJI SHIN SANDEYUU |
| 分类号 |
H01L21/205;C23C16/42;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3205;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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